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半导体先进光刻理论与技术

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装帧:平装
作者:[德]安德里亚斯·爱德曼
ISBN:9787122432766
出版日期:2024-6-1
书名:半导体先进光刻理论与技术
出版社:化学工业出版社
开本:24cm

本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。

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